全自动晶圆显影机
本设备为某企业全自动晶圆显影机,该设备是完成除曝光以外的所有光刻工艺的设备,包括光刻材料的涂布、烘烤、显影、晶圆背面的清洗以及用于浸没式工艺的晶圆表面的去离子水冲洗等。匀胶显影机一般由四部分组成。第一部分是晶圆盒工作站(wafer cassette station),晶圆盒在这里装载到机器上。机械手(robot arm)从晶圆盒中把晶圆抽出来,传送到工艺处理部分(process block),即第二部分。工艺处理部分是匀胶显影机的主体,增粘模块(adhesion enhancement)、热盘(hot plate)、冷盘(chill plate)、旋涂、显影等主要工艺单体都安装在这里,一个或两个机械手在各单体之间传递晶圆。第三部分是为浸没式光刻工艺配套的单体,包括晶圆表面水冲洗单体、背清洗单体等。第四部分是和光刻机联机的接口界面(interface),包括暂时储存晶圆的缓冲盒(buffer)、晶圆边缘曝光(wafer edge exposure,WEE)和光刻机交换晶圆的接口等。本模型建模精巧,为专业人员设计,水平很高,可供大家探讨学习!
全自动晶圆显影机内部细节
全自动晶圆显影机纵剖图
隔断钣金组件
全自动晶圆显影机横剖图
显影单元
化学品供应
厂务供应
机器人组件
药液阀安装板控制组件
漂洗液药液阀安装组件
药液阀安装板组件
热交换器安装组件
外钣金装配
供应(控制)单元组件
全自动晶圆显影机轴测图